Efecto de la distancia de fotopolimerización en la resistencia a la compresión de resinas dual core. Estudio in vitro

Abstract

Objetivo: Determinar el efecto de la distancia de fotopolimerización en la resistencia a la compresión de resinas dual core (Allcem Core, LuxaCore Z y ParaCore). Material y Métodos: El estudio fue de tipo experimental in vitro, transversal, prospectivo, analítico y comparativo. La muestra estuvo constituida por 72 especímenes de resinas dual core, divididos en 3 grupos con (n=24) por marcas de resinas; con 3 subgrupos de (n=8) por distancias de fotopolimerización de 0 mm, 4 mm y 6 mm. Las muestras se elaboraron con una matriz cilíndrica de 4 mm de diámetro y 6 mm de alto, conforme a lo establecido en la Norma ISO 4049:2019. El tiempo de fotocurado se estableció siguiendo las instrucciones del fabricante de cada resina, empleando un dispositivo de curado de diodo emisor de luz (LED). Después de la fabricación de los especímenes, fueron transportados hacia una máquina de ensayos con servocontrol electrohidráulico (WAW-300B Electro-hydraulic Servo Universal Testing Machine), donde se sometieron a pruebas de resistencia a la compresión. Se realizó la prueba estadística paramétrica Anova de dos factores para el análisis inferencial. Resultados: Las medias de resistencia compresiva fueron similares para los tres materiales (p> 0,05), con el mayor valor en LuxaCore cuando fue fotopolimerizado a una distancia de 4 mm (161.12 ± 20.19 MPa). A una distancia de fotopolimerización de 6 mm se observó una disminución uniforme en todos los materiales (Allcem Core 143.48 ± 10.64 MPa; LuxaCore 139.51 ± 16.55 MPa; ParaCore 139.22 ± 16.36 MPa). Además al realizar las comparaciones a 0 mm, 4 mm y 6 mm de distancia de fotopolimerización, encontraron diferencias significativas (p valor < 0,05) sobre la resistencia a la compresión, con medias generalmente comparables a 0 mm (152MPa), un aumento modesto a 4 mm (156 Mpa) y un descenso pronunciado a 6 mm (140 MPa). Se encontró un efecto grande (η²ₚ = 0.160) y significativo sobre la resistencia con un p valor igual a 0,004. Conclusiones: Existe un efecto significativo de la distancia de fotopolimerización en la resistencia a la compresión de tres marcas de resinas dual core (Allcem Core, LuxaCore Z y ParaCore), destacando que la resistencia fue mayor a los 4 mm de distancia de fotopolimerización, además que al comparar la resistencia entre resinas no se dió una diferencia significativa.